TSMC inizia i lavori sul processo produttivo a 5nm

Potrebbe basarsi sulla tecnologia Extreme Ultraviolet Lithography (EUV)

Durante una conferenza dedicata alla gestione dei fornitori tenutasi il mese scorso, il CEO di TSMC Mark Liu ha affermato che la compagnia sta lavorando a un processo produttivo a 5nm, e al momento sta ancora valutando il metodo di produzione più efficace.




In passato TSMC aveva citato il processo a 5nm come un'opzione di ricerca a lungo termine, sperando di metterlo a punto tra il 2014 e il 2019. Al momento è in fase di valutazione il tipo di tecnologia più appropriato per questo tipo di produzione, che potrebbe essere la Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) o una tecnologia a raggi messa a punto da TSMC all'interno del programma di ricerca "More than Moore".

Secondo quanto riportato da EETimes, la soluzione migliore potrebbe essere una combinazione tra un'immersione 193 e la tecnologia EUV; la prima opzione è sicuramente la più efficace ma ha anche un costo molto alto, mentre la seconda è una tecnologia molto acerba e potrebbe non rivelarsi in grado di gestire una produzione a 5nm.

TSMC ha annunciato di aver prodotto i primi chip SRAM a 7nm totalmente funzionanti, e dovrebbe iniziare la produzione a 7nm all'inizio del 2017. Secondo lo stesso report, TSMC dovrebbe iniziare itest di qualifica per il processo a 10nm durante il Q4 2015, per cui i primi sample dovrebbero arrivare nel 2015.




Fonte: Hexus.net.

News by Luca Rocchi and Marc Büchel - German Translation by Paul Görnhardt - Italian Translation by Francesco Daghini


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